• |
  • 注册
  • |
  • 手机云汉
    扫码关注云汉官方微信

    扫码关注云汉官方微信

    扫码关注云汉小程序

    扫码关注云汉小程序

台积电重金投入R&D+专注20与14nm

来源:电子工程世界网
时间:2012-05-14

分享至:
         报道,2012年台积电准备为其R&D投入13亿美元,作为本年度资本支出预算中的一部分。

去年,台积电的R&D预算首次突破10亿美元。而今年多出的30%将会用于20nm和14nm工艺研发。20nm工艺预计今年可以投产,而14nm则预计在2014年投产。

而非R&D方面的资本支出预算主要在扩大28nm工艺产能同时引入20nm方面。

尽管竞争对手三星和英特尔分别有30亿美元和50亿美元的R&D投入,但他们的这部分预算是包括设备研发的,而台积电主要专注于工艺研发。

台积电2012年市场份额预计为170亿美元,在一定程度上与英特尔的500亿美元和三星的300亿美元相比稍逊一筹。


标签 三星 英特尔 台积电 Digikey代购 芯片代购 小批量芯片代购 ICKEY IC代购

更多新闻